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                        溢格蝕刻加工

                        金屬蝕刻加工-金屬腐蝕加工

                        文章來源:未知時間:2019-08-08 點擊:
                        金屬蝕刻加工-金屬腐蝕加工
                        鋁在空氣中有高的穩定性,即使在無任何保護的情況下亦具有較強的抗蝕能力。這
                        是由于鋁的活潑性較高,鋁暴露于大氣中,其表面會立即自然地生成一層薄而透明且堅韌
                        的氧化膜層。這一天然的氧化膜層達到一定厚度就會自動停止生長,其厚度由環境和暴
                        露時間而定。在干燥空氣中和室溫下約為50A,最厚亦可達100A。

                        鋁是兩性金屬,在堿性環境中會很快被腐燭,在濃HNO3和濃H2SO3中會被鈍化,而不
                        被進一步腐蝕,對大多數有機酸亦顯惰性。因此鋁容器可以用來儲藏濃hno3、濃h2so3、
                        有機酸和許多其他化學試劑。但鹵素對鋁有極強的侵蝕力,因此鋁容器不能用于這類物
                        質的儲藏、包裝、運輸等。
                        鋁合金以其優良的力學性能、電氣性能、電化學性能和可加工性能,廣泛用于建筑、交
                        通、電力、化工、食品包裝、機械制造和日用工業。
                        鋁合金作為一種戰略金屬,在軍事上廣泛用于制造飛機、艦船、裝甲、坦克部件、導彈
                        彈體等,人造衛星等各種太空飛行器也都大量使用鋁合金。在金屬的化學燭刻加工中,鋁
                        合金占有很大比例,特別是在航空航天工業有大量的零件都要經過化學燭刻加工。
                        二、鋁合金蝕刻的特點

                        鋁是一種活潑金屬,從金屬活動順序中可以看出,鋁的位置排得比較靠前,同時鋁的
                        標準電極電位較負。見式(5-D。
                        Al3+ +3e—>A1 E。= -1.66V (5-1)
                        從式(5 -1)可以看出鋁的標準電極電位很負(-1. 66V),使鋁的金屬活潑性比較強,
                        容易被燭刻。但在實際情況中,鋁卻表現出較高的抗燭性能。這是由于鋁在空氣中能迅
                        速生成一層致密的氧化鋁保護皮膜(這種自然形成的氧化物保護膜也可稱之為鈍化膜),
                        其厚度約為50A ~200A(lA=10-lom),這便賦予了鋁合金表面很好的耐蝕性能。這層氧
                        化膜的主要成分為A12O3,在高溫水中(85T)生成的氧化皮膜為A12O3 • H20,而且此時
                        生成的氧化皮膜較厚。鋁表面氧化反應過程如下:
                        2A1+6OH' +6H + =2A13+ +60H- +6H (5-2)

                        這一反應的進行將導致鋁表面周圍溶液pH升高而呈堿性,弓|起如下反應,并有112
                        溶液中逸出:
                        2A13+ +60H- +6H=A1(OH)3 +3H2 f (5-3)
                        2A1(OH)3=A12O3 - H2O+2H2O (5 -4)
                        反應(5-3)和反應(5-4)的進行,使鋁合金表面能迅速生成一層致密氧化膜,得到
                        保護,阻礙燭刻介質的侵蝕作用,使基體金屬不至于進一步同燭刻介質(如O2、H2O等)發
                        生反應,從而使鋁合金在空氣中有較高穩定性。由此可見,鋁合金的抗蝕性能,是由表面
                        氧化皮膜性質所決定。
                        從反應式(5-2)中可以看出,鋁的蝕刻受H +濃度影響很大。H +濃度升高或降低都
                        將導致A1(OH)3或A12O3 • H20的溶解,從而導致表面保護氧化膜層被破壞,其結果,使
                        鋁被腐燭。

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